低壓條件下,在13.56 MHz射頻電流作用下產(chǎn)生高活性等離子體,從而實(shí)現(xiàn)材料生長(zhǎng)、材料表界面改性的一種先進(jìn)材料制備技術(shù)。
工作原理:
用等離子體材料工作站,低真空條件下,在射頻13.56 MHz作用下
產(chǎn)生高活性等離子體,從而實(shí)現(xiàn)材料生長(zhǎng)、材料表界面改性或材料物相摻雜的一
種先進(jìn)材料制備和材料摻雜改性技術(shù)。
技術(shù)優(yōu)勢(shì):
1:1000瓦等離子功率設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)其他等離子體設(shè)備不具備的材料制備功能
2:突破了氣、固、液多相等離子技術(shù),實(shí)現(xiàn)了多元等離子體及其材料制備和改性
3:發(fā)明了原位等離子體裝置,突破了空氣敏感、易氧化物質(zhì)的等離子體制備和
改性,實(shí)現(xiàn)了鋰、鈉、鉀等金屬負(fù)極和硫系固體電解質(zhì)的等離子體改性
4. 同時(shí)適用于常規(guī)材料和空氣敏感物質(zhì),提供與設(shè)備匹配的材料制備和改性技術(shù)
Thank you for your submission. We will contact you within 24 hours